全自动晶圆电镀系统
制造商: 日本
主要功能: 适用于多层电镀的全自动电镀系统
电镀过程是金属化的过程,通过全密闭单片式电镀腔体,将电镀液中的金属离子电镀到晶圆表面,以形成金属互联。导电电极会连接至晶圆,采用电镀工艺沉积金属至晶圆上图案化的沟槽内而形成金属层(又称为金属薄膜)中的金属线,例如形成铜线,或者金线。
此电镀设备可运用于多种晶圆材料如Si、InP、GaAs、GaN、LiNbO3、SiC等,也可做电镀Au、Cu、Ni、Sn、Ag等多种金属的单层或多层电镀工艺。
同样适用于多种电镀工艺,如凸块,RDL,通孔,盲孔,深孔等工艺需求,拥有出色的均匀性。
根据工艺需求,可提供配套的电镀药水。
该全自动型主要针对多层电镀,采用机械手自动上下料,以2个CUP槽体为单位可以无限增加,Prewet,QRD,SRD等功能,可实现干进干出。
1,配备高性能搅拌电镀槽
2,单片水平封闭式槽体设计
3,更适合多层电镀
4,配备阴极清洁系统
5,更换电镀液便捷
6,电镀槽以2槽为单位可无限增加
7,完整的数据记录
8,将活动部件减至最低,以减少灰尘
9,根据客户需求灵活配置
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