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全自动型(定制型)

全自动晶圆电镀系统
制造商: 日本
主要功能: 高度定制化的全自动电镀系统

  •        电镀过程是金属化的过程,通过全密闭单片式电镀腔体,将电镀液中的金属离子电镀到晶圆表面,以形成金属互联。导电电极会连接至晶圆,采用电镀工艺沉积金属至晶圆上图案化的沟槽内而形成金属层(又称为金属薄膜)中的金属线,例如形成铜线,或者金线。
           此电镀设备可运用于多种晶圆材料如Si、InP、GaAs、GaN、LiNbO3、SiC等,也可做电镀Au、Cu、Ni、Sn、Ag等多种金属的单层或多层电镀工艺。
           同样适用于多种电镀工艺,如凸块、RDL、通孔、盲孔、深孔等工艺需求,拥有出色的均匀性。
           根据工艺需求,可提供配套的电镀药水。
     

           全自动型采用机械手自动上下料,并配备多个CUP槽体、Prewet、QRD、SRD等功能,可实现干进干出。

  • 1,配备高性能搅拌电镀

    2,单片水平封闭式槽体设计

    3,根据客户需求高度定制化

    4,配备阴极清洁系统

    5,更换电镀液便捷

    6,完整的数据记录

    7,将活动部件减至最低减少灰尘

010-56380018